中商情報網(wǎng)訊：光刻機是半導體制造過程中的關鍵設備。隨著半導體產(chǎn)業(yè)在電動汽車、風光儲、人工智能等新需求的推動下持續(xù)發(fā)展，光刻機前景廣闊。
一、光刻機的定義及分類
光刻機，又稱光刻對準曝光機、掩模對準曝光機、曝光系統(tǒng)或光刻系統(tǒng)等，是光刻工藝乃至整個芯片制造過程中的核心設備。光刻機可以根據(jù)不同的分類標準劃分為多種類型，以下是一些常見的分類方式：
資料來源：中商產(chǎn)業(yè)研究院整理
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